鉬靶材

產品名稱：鉬靶材
純度：≥99.95%
密度：理論密度的99.9%以上
圓靶材規格：D（25400）mm*T（328）mm
方靶材規格：L（2002000）mm*W（101000）mm*T(120)mm
管靶材規格：D≤Φ165mm*L≤1000mm
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　　鉬靶材廣泛用于磁控濺射鍍膜。在物理氣相鍍膜(PVD)方式中，對鉬靶材的成分純度，密度，微觀結構，內部質量，焊接質量，外觀質量和幾何尺寸有著嚴格要求。
　　鉬濺射靶材現用于平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等，